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常規清洗液介紹
2.0%(W)檸檬酸(C6H8O7)的低pH(pH值為3~4)清洗液。以于去除無機鹽垢(如碳酸鈣垢、硫酸鈣、硫酸鋇、硫酸鍶垢等)、金屬氧化物/氫氧化物(鐵、錳、銅、鎳、鋁等)及無機膠體十分有效。 

[溶液2] 

0.5%(W)鹽酸低pH清洗液(pH為2.5),主要用于去除無機物垢(如碳酸鈣垢、硫酸鈣、硫酸鋇、硫酸鍶垢等),金屬氧化物/氫氧化物(鐵、錳、銅、鎳、鋁等),及無機膠體。這種清洗液比溶液1要強烈些,因為鹽酸(HCl)是強酸。鹽酸的下述濃度值是有效的:(18°波美=27.9%,20°波美=31.4%,22°波美=36.0%)。 

[溶液3] 

0.1%(W)氫氧化鈉高pH清洗液(pH為11.5)。用于去除聚合硅垢。這一洗液是一種較為強烈的堿性清洗液。 

7 RO膜元件的保潔和沖洗程序 

RO膜元件可置于壓力容器中,在高流速的情況下,用循環的保潔水(RO產品水或不含游離氯的潔凈水)流過膜元件的方式進行清洗。RO的清洗程序完全取決于具體情況,必要時更換用于循環的保潔水。 

RO膜元件的常規清洗程序如下: 

在60psi(4bar)或更低壓力條件下進行低壓沖洗,即從清洗罐中(或相當的水源)向壓力容器中泵入保潔水然后排放掉,運行幾分鐘。沖洗水必須是潔凈的、去除硬度、不含過渡金屬和余氯的RO產品水或去離子水。 

在清洗罐中配制特定的清洗溶液。配制用水必須是去除硬度、不含過渡金屬和余氯的RO產品水或去離子水。溫度和pH應調到所要求的值。 

啟動清洗泵將清洗液泵入膜組件內,循環清洗約一小時或是要求的時間(咨詢供應商技術人員)。在起始階段,清洗液返回至RO清洗罐之前,將初的的回流液排放掉,以免系統內滯留的水對清洗溶液造成稀釋。在初的5分鐘內,慢慢地將流速調節到大設計流速的1/3。這可以減少由污物的大量沉積而造成的潛在污堵。在第二個5分鐘內,增加流速至大設計流速的2/3,然后,再增加流速至設計的大流速值。如果需要,當pH的變化大于1,就要重新調回到原數值。 

根據需要,可交替采用循環清洗和浸泡程序。浸泡時間建議選擇1至8小時(請咨詢富華公司)。要謹慎地保持合適的溫度和pH。 

化學清洗結束之后,要用保潔水(去除硬度、不含金屬離子如鐵和氯的RO產品水或去離子水)進行低壓沖洗,從清洗裝置/部件中去除化學藥劑的殘留部分,排放并沖洗清洗罐,然后再用保潔水完全注滿清洗罐以作沖洗之用。從清洗罐中泵入所有的沖洗水沖洗壓力容器至排放。如果需要,可進行第二次清洗。 

一旦RO系統已用貯水罐中的保潔水完全沖洗后,就可用預處理給水進行終的低壓沖洗。給水壓力應低于60psi(4bar),終沖洗持續進行直至沖洗水干凈,且不含任何泡沫和清洗劑殘余物。通常這需要15~60分鐘。操作人員可用干凈的燒瓶取樣,搖勻,監測排放口處沖洗水中洗滌劑和泡沫的殘留情況。洗液的去除情況可用測試電導的方法進行,如沖洗水至排放出水的電導在給水電導的10~20%以內,可認為沖洗已接近終點;pH表也可用于測定,來比較沖洗水至排放出水與給水的pH值是否接近。 

一旦所有級段已清洗干凈,且化學藥劑也已沖洗掉,RO可重新開始置于運行程序中,但初始的產品水要進行排放并監測,直至RO產水可滿足工藝要求(電導、pH值等)。為得到穩定的RO產水水質,這一段恢復時間有時需要從幾小時到幾天,尤其是在經過高pH清洗后。 

8 反滲透膜的化學清洗與水沖洗 

清洗時將清洗溶液以低壓大流量在膜的高壓側循環,此時膜元件仍裝在壓力容器內而且需要專門的清洗裝置來完成該工作。 

清洗反滲透膜元件的一般步驟: 

一、用泵將干凈、無游離氯的反滲透產品水從清洗箱(或相應水源)打入壓力容器中并排放幾分鐘。 

二、用干凈的產品水在清洗箱中配制清洗液。 

三、將清洗液在壓力容器中循環1小時或預先設定的時間。 

四、清洗完成以后,排凈清洗箱并進行沖洗,然后向清洗箱中充滿干凈的產品水以備下一步沖洗。 

五、用泵將干凈、無游離氯的產品水從清洗箱(或相應水源)打入壓力容器中并排放幾分鐘。 

六、在沖洗反滲透系統后,在產品水排放閥打開狀態下運行反滲透系統,直到產品水保潔、無泡沫或無清洗劑(通常15~30分鐘)。
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